共同研究者（九州産業大学　末吉先生）の論文が米国応用物理学会誌Journal of Applied Physics最新号のFeature Ariticleに選出されました。

共同研究者の九州産業大学　末吉哲郎先生の論文”Novel strategy for improving anisotropic critical current density of YBa₂Cu₃O_y films through ab-plane oriented columnar defects”

が米国応用物理学会誌Journal of Applied Physics最新号J.Appl.Phys.138,113904(2025)のFeature Ariticleに選出されました。

 

本研究はMRIや核融合などの高磁場環境で高温超電導ケーブルを使用する際に必要とされるピンニング機能をイオン照射によりもたらす技術であり、本技術の活用により

今後商用化が進む核融合炉などの複雑な磁場環境において超電導線材の機能を十分に発揮させることが期待できます。

 

論文中に掲載されている下の写真は、　200MeVXeイオンを照射したYBa2Cu3Oyの断面TEM画像です。

矢印は、イオン照射により形成した損傷軌跡(ピンニングセンター)の場所を示しています。

汎用技術では任意の方向性を持ったピンニングセンターを形成することは難しく、制御性の高い

イオンビームならではの技術といえます。